Плоско-выпуклая линза с покрытием для 500-1100 нм, диаметр: 12.5 мм, фокусное расстояние: 12.5 мм, с затемненными торцами

Описание

Плоско-выпуклая линза Edmund Optics 38-578-INK представляет собой компактный положительный оптический элемент для работы с лазерным излучением в видимой и ближней инфракрасной областях. Линза изготовлена из высокоиндексного оптического стекла N-SF11 и имеет диаметр 12,5 мм при эффективном фокусном расстоянии 12,5 мм. Такая геометрия обеспечивает высокую светосилу и позволяет использовать элемент для сбора расходящегося излучения, фокусировки коллимированных пучков и построения малогабаритных оптических трактов. Одна поверхность линзы плоская, вторая имеет сферическую выпуклую форму; при фокусировке коллимированного пучка выпуклую сторону рекомендуется ориентировать к источнику, чтобы уменьшить влияние сферической аберрации.

На обе оптические поверхности нанесено широкополосное антиотражающее покрытие YAG-BBAR, рассчитанное на диапазон 500–1100 нм. Покрытие обеспечивает особенно низкое отражение на длинах волн 532 и 1064 нм, характерных для второй гармоники и фундаментальной линии Nd:YAG-лазеров. Чернёная кромка исполнения INK подавляет паразитный свет, распространяющийся внутри стекла и отражающийся от края линзы. Это помогает уменьшить блики, повысить контраст изображения и снизить уровень фоновой засветки в системах с чувствительными детекторами.

Характеристики

• Тип: сферическая плоско-выпуклая линза, PCX
• Материал: Schott N-SF11
• Диаметр: 12,5 мм
• Чистая апертура: 11,5 мм
• Эффективное фокусное расстояние: 12,5 мм при 587,6 нм
• Допуск фокусного расстояния: ±1%
• Заднее фокусное расстояние: 10,4 мм
• Радиус выпуклой поверхности: 9,81 мм
• Центральная толщина: 3,75 мм
• Краевая толщина: 1,5 мм
• Числовая апертура: 0,50
• Относительное отверстие: f/1
• Покрытие: YAG-BBAR, 500–1100 нм
• Отражение: менее 0,25% на поверхность при 532 и 1064 нм
• Среднее отражение: менее 1% на поверхность в диапазоне 500–1100 нм
• Качество поверхности: 40-20 scratch-dig
• Нерегулярность поверхности: λ/4 при 632,8 нм
• Исполнение: чернёная кромка для снижения рассеянного света

Отрасли применения

Линза применяется в трактах Nd:YAG-лазеров, системах доставки излучения на 532 и 1064 нм, устройствах лазерной маркировки, измерительных стендах, оптических датчиках и компактных модулях фокусировки. Высокая числовая апертура позволяет использовать её для ввода света в волокно, коллимации излучения от лазерных диодов, формирования малого фокусного пятна и сбора света от люминесцентных или отражающих объектов. Чернёное исполнение востребовано в камерах, спектральных приборах, системах машинного зрения и других установках, где необходимо ограничить внутренние отражения и сохранить контраст.

Описание семейства продуктов

• Оптимизирован для R<0,25 % при длине волны 532 нм и 1064 нм.
• Просветляющее покрытие обеспечивает коэффициент отражения <1,0% на поверхность в диапазоне 500–1100 нм
• Предназначен для угла падения 0°
• Различные варианты покрытия: без покрытия, MgF₂, VIS 0°, VIS-NIR, NIR I, NIR II и VIS-EXT

Плоско-выпуклые линзы (PCX) имеют положительное фокусное расстояние, что делает их идеальными для сбора и фокусировки света в приложениях для обработки изображений. Они также полезны в различных приложениях, связанных с излучателями, детекторами, лазерами и волоконной оптикой. Версии с покрытием имеют оптимальную светопропускную способность. Доступны различные диаметры и фокусные расстояния.