Описание
Кристаллы V:YAG – это относительно новые кристаллические материалы. Пассивная модуляция добротности доступна в спектральном диапазоне 1064 – 1440 нм, в первую очередь из-за высокого основного состояния. Кристаллы V:YAG используются с целым рядом активных сред (Nd:YAG, Nd:YAP, Nd:KGW, Nd:YVO4) для достижения компактности и хороших характеристик лазеров с пассивной модуляцией добротности. Данный материал показывает превосходные оптические, механические и термические свойства. Кристаллы могут быть выращены методом Чохральского.
Особенности: - Высокое поглощение основного состояния; - Незначительное поглощение из возбужденного состояния; - Высокий контраст модуляции добротности; - Хорошие оптические, механические и термические свойства; - Устойчив к УФ излучению и имеет высокий порог повреждения. |
Применения: - Лазеры с пассивной модуляцией добротности для лазерных дальномеров, LIDAR и LIBS систем. |
Линии поглощения и излучения
Свойства V:YAG кристаллов
Спектроскопические и термо-механические свойства материала | ||||||
---|---|---|---|---|---|---|
Материал |
σgsa, см2 (1.34 мкм) |
σesa, см2 (1.34 мкм) |
τsa, нс |
Лазерный кристалл |
λlas, мкм |
σgsa/σem |
V3+:Y3Al5O12 |
72×10-19 |
7.4×10-19 |
5-37 |
Pr:YAP |
0.747 |
10 |
Ti:Al2O3 |
0.78 |
25 | ||||
Cr:LiCAF |
0.78 |
80 | ||||
Nd:GGG | 0.93 | - | ||||
Nd:YLF |
1.05 |
15 | ||||
Nd:YAG |
1.06 |
8 | ||||
Nd:YVO4 |
1.06 |
1.5 | ||||
Yb:KYW |
1.035 |
70 | ||||
Nd:YAP |
1.34 |
24 | ||||
Nd:GdVO4 |
1.34 |
30 | ||||
Er:glass |
1.54 |
45 | ||||
Кристаллическая структура |
Кубическая | |||||
Плотность |
4.56 г/см3 | |||||
Коэффициент линейного теплового расширения |
6.14×10-6 К-1 | |||||
Теплопроводность |
11.2 Вт*м-1К-1 | |||||
Твердость по Моосу |
8.2 | |||||
Показатель преломления |
1.82 (1064 нм) |
Стандартная спецификация на V:YAG кристаллы
Параметры |
Значения |
---|---|
Доступное начальное пропускание |
30-98% (1340 нм) |
Начальный допуск на пропускание |
±1% (для значений более 80%) |
Чистая апертура |
>90% |
Допуск на поперечные размеры |
+0.0/-0.1 мм |
Допуск на длину кристалла |
±0.1 мм |
Параллелизм |
<20 угловых секунд |
Перпендикулярность |
<10 угловых минут |
Фаски |
<0.1 мм на 45˚ |
Покрытия |
AR (R<0.2%) @ 1310-1360 нм (для рабочих поверхностей) |
Качество поверхностей |
10-5 S-D |
Плоскостность рабочих граней |
<λ/8 @ 632.8 нм |
Отклонение волнового фронта | <λ/4 @ 632.8 нм |
Порог повреждения |
>10 Дж/см2 (1064 нм, 10 нс) |
Крепление |
Без крепления |
В таблице ниже представлены стандартные модели, по запросу пользователя возможно изготовление кристаллов других размеров. По вопросам изготовления других конфигураций кристаллов Optogama обращайтесь к представителям компании АЗИМУТ ФОТОНИКС.