LMUL-50X-UVB - Фокусирующий объектив MicroSpot с длинным фокусным расстоянием, 50X, просветляющее покрытие: 240 - 360 нм, NA=0.42, Thorlabs

Описание

LMUL-50X-UVB – старшая модель в серии MicroSpot с длинным фокусным расстоянием для средне-УФ диапазона. Увеличение 50X и числовая апертура 0,42 обеспечивают очень высокий уровень пространственного разрешения и малое фокусное пятно, при этом удлинённое фокусное и рабочее расстояние создают дополнительный зазор между оптикой и образцом. Это особенно важно в промышленных и исследовательских системах, где используется закрытая камера, агрессивная среда, высокие температуры или массивная оснастка вокруг зоны обработки.

Антиотражающее покрытие 240–360 нм рассчитано на эффективную работу с несколькими длинами волн (248, 266, 308, 351–355 нм), а оптическая схема из кварца и CaF₂ с воздушными промежутками оптимизирована для компенсации аберраций при удлинённом фокусе. Конструкция рассчитана на высокие плотности энергии, характерные для мощных импульсных и непрерывных УФ-лазеров, и обеспечивает стабильную геометрию фокусного пятна во времени.

LMUL-50X-UVB часто используется в сложных технологических установках: для записи тончайших структур, точной гравировки и маркировки, микрообработки в атмосферах инертных газов или вакуума, а также в исследовательских системах, где критично одновременно и максимальное разрешение, и дистанцирование оптики от зоны воздействия. Стандартная резьба RMS делает интеграцию с микроскопными платформами и оптомеханикой максимально удобной.

Отрасли применения:

• Высокоточная УФ-литография и микрообработка с субмикронным разрешением.
• Гравировка и маркировка деталей в закрытых камерах и агрессивных средах.
• Запись сложных микрорисунков и структур на оптике, полупроводниках и функциональных покрытиях.
• Исследовательские установки, где оптика должна быть удалена от зоны высоких температур или реакций.
• Инспекция и тестирование УФ-структур и покрытий при сохранении большого зазора до образца.

Характеристики

• Тип: высокоапертурный УФ-объектив MicroSpot с длинным фокусным расстоянием.
• Увеличение: 50X.
• Диапазон просветляющего покрытия: 240–360 нм.
• Числовая апертура (NA): 0,42.
• Особенность: увеличенное фокусное и рабочее расстояние при очень высоком разрешении.
• Оптические материалы: кварц и CaF₂.
• Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённая, рассчитанная на экстремальные плотности энергии.
• Резьба: RMS (0.8"-36).
• Назначение: УФ-процессы 240–360 нм, где нужны и максимальное разрешение, и большой зазор между объективом и образцом.