LMUL-10X-UVB - Фокусирующий объектив MicroSpot с длинным фокусным расстоянием, 10X, просветляющее покрытие: 240 - 360 нм, NA=0.25, Thorlabs

LMUL-10X-UVB – фокусирующий объектив MicroSpot с длинным фокусным расстоянием, 10X, широкополосное просветляющее покрытие 240–360 нм, числовая апертура 0,25, Thorlabs.

Описание

LMUL-10X-UVB относится к серии MicroSpot с удлинённым фокусным расстоянием и предназначен для средне-УФ диапазона 240–360 нм. В отличие от стандартных LMU-10X-UVB, эта версия обеспечивает большее рабочее расстояние и более “мягкий” конус фокусировки при сохранении сравнимой числовой апертуры (NA 0,25). Такое сочетание позволяет работать с образцами, где требуется дополнительный зазор – наличие защитных окон, толстых покрытий, объёмных деталей или элементов оснастки.

Оптическая схема на основе кварца и CaF₂ с воздушными промежутками оптимизирована для минимизации аберраций при удлинённом фокусе и высокой плотности энергии в фокусе. AR-покрытие 240–360 нм обеспечивает низкие потери на основных технологических длинах волн (248, 266, 308, 351–355 нм). Бесконечно скорректированный дизайн позволяет интегрировать объектив в сложные оптические тракты с фильтрами, модуляторами, разветвителями и сканирующими блоками.

Благодаря удлинённому фокусному и рабочему расстоянию LMUL-10X-UVB особенно удобен в промышленных установках микромеханики и маркировки, где важно иметь дополнительные миллиметры запаса между оптикой и изделием, а также в системах, где между объективом и образцом есть оптическое окно или слой защитного материала. Стандартная резьба RMS облегчает подключение к оптомеханике и микроскопным платформам.

Отрасли применения:

• УФ-микрообработка и маркировка изделий с защитными окнами и покрытиями.
• Литография и экспонирование через кварцевые окна или толстые слои материала.
• Обработка сложноформных и объёмных деталей, где требуется увеличенный зазор.
• Исследовательские установки с высоким уровнем защиты и дистанцией между оптикой и образцом.

Характеристики

• Тип: УФ-объектив MicroSpot с длинным фокусным расстоянием.
• Увеличение: 10X.
• Диапазон просветляющего покрытия: 240–360 нм.
• Числовая апертура (NA): 0,25.
• Особенность: увеличенное фокусное и рабочее расстояние по сравнению со стандартной серией LMU.
• Оптические материалы: кварц и CaF₂.
• Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённая, рассчитанная на высокие плотности энергии.
• Резьба: RMS (0.8"-36).
• Назначение: УФ-процессы 240–360 нм, где критичен увеличенный зазор между объективом и образцом.