LMU-40X-UVB - Фокусирующий объектив MicroSpot, 40X, просветляющее покрытие: 240 - 360 нм, NA=0.50, Thorlabs

LMU-40X-UVB – высокоапертурный фокусирующий объектив MicroSpot, 40X, широкополосное просветляющее покрытие 240–360 нм, числовая апертура 0,50, Thorlabs.

Описание

LMU-40X-UVB – флагманский высокоапертурный объектив для среднего УФ-диапазона в линейке MicroSpot. Комбинация увеличения 40X и NA 0,50 обеспечивает чрезвычайно малое фокусное пятно и максимальную локальную плотность энергии на длинах волн 248, 266, 308, 351–355 нм. Широкополосное AR-покрытие 240–360 нм делает объектив универсальным инструментом для установок, где требуется работа сразу с несколькими УФ-лазерами или перестраиваемыми источниками.

Оптическая система на базе кварца и CaF₂ с воздушными промежутками оптимизирована для минимизации аберраций в широком диапазоне средних УФ-длин волн и рассчитана на высокие пороги лазерного повреждения. Бесконечно скорректированный дизайн позволяет использовать объектив в сложных оптических трактах: между объективом и tube-линзой можно размещать фильтровые блоки, модуляторы, разветвители и сканирующие узлы, сохраняя высокое качество фокусировки.

LMU-40X-UVB широко применяется там, где требуется максимальное разрешение и точность при УФ-обработке: в микролитографии следующего поколения, прецизионной микромеханике, записи сложных микрорисунков и структур, а также в исследовательских системах, ориентированных на изучение фотохимических и фотофизических процессов в среднем УФ. Стандартная резьба RMS облегчает интеграцию с большинством микроскопных и оптомеханических платформ.

Отрасли применения:

• УФ-микролитография с максимальным разрешением на длинах волн 248, 266, 351–355 нм.
• Микрообработка и микросверление материалов в среднем УФ с субмикронными размерами элементов.
• Лазерная маркировка и гравировка изделий высокого класса точности.
• Исследование нелинейных эффектов, плазмообразования и фотохимических реакций в среднем УФ.
• Инспекция и тестирование УФ-оптики и структур с крайне высокими требованиями к пространственному разрешению.

Характеристики

• Тип: высокоапертурный УФ-объектив MicroSpot.
• Увеличение: 40X.
• Диапазон просветляющего покрытия: 240–360 нм.
• Числовая апертура (NA): 0,50.
• Оптические материалы: кварц и CaF₂.
• Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённая, рассчитанная на экстремальные плотности энергии.
• Фокусное пятно: одно из самых малых в линейке UVB-объективов MicroSpot.
• Резьба: RMS (0.8"-36).
• Назначение: процессы УФ-микрообработки и литографии с предельно высокими требованиями к разрешению.