LMU-3X-NUV - Фокусирующий объектив MicroSpot, 3X, просветляющее покрытие: 325 - 500 нм, NA=0.08, Thorlabs

LMU-3X-NUV – фокусирующий объектив MicroSpot, 3X, широкополосное просветляющее покрытие 325–500 нм, числовая апертура 0,08, Thorlabs.

Описание

LMU-3X-NUV – это “младшая” широкополосная модель серии MicroSpot, ориентированная на ближний УФ- и видимый диапазон 325–500 нм. В отличие от старших объективов с увеличением 10X, 15X и 20X, модель 3X обеспечивает более крупное фокусное пятно и значительно большую глубину фокуса, что уменьшает требования к точности позиционирования образца и упрощает юстировку оптической системы. Широкополосное AR-покрытие позволяет эффективно работать как с УФ-лазерами (355, 375, 405 нм), так и с источниками в синей и зелёной областях спектра, сохраняя умеренные потери на отражениях во всём диапазоне.

Оптическая схема LMU-3X-NUV построена на линзах из кварца и CaF₂ с воздушными промежутками, что позволяет минимизировать аберрации и обеспечить высокую стойкость к лазерному повреждению. Бесконечно скорректированный дизайн даёт возможность вставлять в параллельный участок пучка дополнительные элементы – фильтры, поляризаторы, модуляторы, разделители пучка – без заметного ухудшения качества фокусировки. Небольшая числовая апертура 0,08 формирует достаточно “толстое” по глубине пятно, что полезно при обработке трёхмерных объектов, толстых слоёв фотополимеров или при работе с образцами, положение которых по высоте сложно контролировать с субмикронной точностью.

LMU-3X-NUV имеет стандартную микроскопную резьбу RMS, благодаря чему легко интегрируется в микроскопные стойки, оптомеханические сборки и исследовательские установки. Объектив подходит как для грубой или предварительной обработки и экспонирования, так и для задач, где требуется широкополосная работа в нескольких спектральных областях, но не критично минимальное пространственное разрешение.

Отрасли применения:

• Универсальные экспериментальные стенды в диапазоне 325–500 нм (355/375/405 нм и видимый свет).
• 3D-печать и фотополимеризация с акцентом на большую глубину фокуса и допуски по высоте образца.
• Флуоресцентные и спектроскопические установки с ближне-УФ и видимыми источниками, где требуется широкополосная оптика.
• Инспекция и тестирование покрытий, фотополимеров и микрооптики в ближнем УФ/видимом диапазоне.
• Грубая или предварительная обработка и экспонирование перед высокоточной литографией более “старшими” объективами.

Характеристики

• Тип: широкополосный NUV/VIS объектив MicroSpot.
• Увеличение: 3X.
• Диапазон просветляющего покрытия: 325–500 нм.
• Числовая апертура (NA): 0,08.
• Оптические материалы: кварц и CaF₂ с низким поглощением в ближнем УФ.
• Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённая, рассчитанная на высокие плотности энергии.
• Особенности фокусировки: относительно крупное фокусное пятно и увеличенная глубина фокуса по сравнению с 10–40X моделями.
• Резьба крепления: RMS (0.8"-36), совместима с большинством микроскопных платформ и адаптеров.
• Назначение: работы в ближнем УФ/видимом диапазоне при умеренных требованиях к размеру пятна и повышенных допусках по высоте.