LMU-20X-UVB - Фокусирующий объектив MicroSpot, 20X, просветляющее покрытие: 240 - 360 нм, NA=0.40, Thorlabs

LMU-20X-UVB – фокусирующий объектив MicroSpot, 20X, для среднего УФ-диапазона 240–360 нм, числовая апертура 0,40, Thorlabs.

Описание

LMU-20X-UVB – это высокоапертурная версия широкополосных УФ-объективов MicroSpot для диапазона 240–360 нм. Он предназначен для систем, где необходимы максимальное пространственное разрешение и высокая локальная плотность энергии в среднем УФ – от 248 до 266 и 351–355 нм. Просветляющее покрытие 240–360 нм обеспечивает низкие потери на всех ключевых технологических длинах волн, позволяя использовать один объектив в разных конфигурациях.

Числовая апертура 0,40 обеспечивает заметно более мелкое фокусное пятно по сравнению с 10X и 15X моделями, что важно для задач, где размер обрабатываемых или экспонируемых элементов приближается к дифракционному пределу. Оптическая схема из кварца и CaF₂ с воздушными промежутками рассчитана на высокие пороги лазерного повреждения и хорошую коррекцию аберраций во всём спектральном диапазоне.

Как и другие MicroSpot-объективы, LMU-20X-UVB использует бесконечно скорректированную конструкцию и стандартную резьбу RMS, что упрощает его интеграцию в существующие микроскопные, литографические и исследовательские системы. Он особенно востребован в установках многоцелевой УФ-микрообработки, где один и тот же оптический тракт должен работать с разными лазерами и схемами облучения.

Отрасли применения:

• Высокоточная УФ-микролитография и экспонирование с несколькими длинами волн (248, 266, 351–355 нм).
• Микрообработка и микросверление материалов с максимальным разрешением.
• Лазерная маркировка, гравировка и текстурирование промышленных изделий в среднем УФ.
• Исследование УФ-старения и деградации материалов при различных длинах волн.
• Инспекция УФ-оптики и фоточувствительных структур с высоким пространственным разрешением.

Характеристики

• Тип: высокоапертурный УФ-объектив MicroSpot.
• Увеличение: 20X.
• Диапазон просветляющего покрытия: 240–360 нм.
• Числовая апертура (NA): 0,40.
• Оптические материалы: кварц и CaF₂.
• Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённая, рассчитанная на высокие плотности энергии.
• Резьба: RMS (0.8"-36).
• Назначение: многоцелевые УФ-системы с максимальным разрешением и несколькими рабочими длинами волн.