Описание
LMU-15X-351 относится к серии высокомощных УФ-объективов MicroSpot и предназначен для прецизионной фокусировки лазерного излучения в ближнем ультрафиолете. Объектив оптимизирован под длину волны около 351–355 нм, что делает его естественным выбором для систем, использующих соответствующие гармоники твердотельных лазеров. Узкополосное просветляющее покрытие 340–370 нм обеспечивает минимальные потери на отражение и высокую пропускную способность в рабочем диапазоне, что особенно важно при работе с высокими плотностями энергии.
Числовая апертура 0,32 и увеличение 15X позволяют формировать очень компактное фокусное пятно – меньше, чем у 10X-моделей, при сохранении достаточной глубины фокуса для технологических задач. Оптическая схема из кварца и CaF₂ с воздушными промежутками рассчитана на высокие пороги лазерного повреждения и эффективную коррекцию аберраций во всём узком спектральном диапазоне. Бесконечно скорректированная конструкция даёт возможность вводить в параллельный пучок дополнительные оптические элементы – фильтры, модуляторы, разделители – без заметного ухудшения качества фокусировки.
Объектив выполнен в стандартном микроскопном форм-факторе с резьбой RMS, поэтому он легко интегрируется в микроскопные стойки, сканирующие головки, литографические и исследовательские установки. LMU-15X-351 часто используют в системах высокоточной фотолитографии, 3D-печати и микромеханической обработки, где требуется сочетание высокого разрешения, стабильной геометрии пятна и надёжной работы в ближнем УФ.
Отрасли применения:
- Ближне-УФ фотолитография и экспонирование фоторезистов на длинах волн ~351–355 нм.
- 3D-печать и стереолитография с УФ-полимерами, чувствительными в диапазоне 340–370 нм.
- Лазерная микрообработка и текстурирование поверхностей в ближнем УФ.
- Инспекция и тестирование УФ-чувствительных покрытий, микрооптики и структур.
- Исследовательские стенды по разработке и отработке новых фоточувствительных материалов и УФ-технологий.
Характеристики
- Тип: высокомощный фокусирующий объектив MicroSpot для ближнего УФ.
- Увеличение: 15X.
- Диапазон просветляющего покрытия: 340–370 нм.
- Рабочая длина волны: около 351–355 нм.
- Числовая апертура (NA): 0,32.
- Оптические материалы: кварц и CaF₂ с низким поглощением в УФ.
- Конструкция: бесконечно скорректированная, воздушно-разнесённые линзы, повышенный порог лазерного повреждения.
- Тип резьбы: RMS (0.8"-36), совместима с большинством микроскопных систем и адаптеров.
- Назначение: фокусировка ближне-УФ лазеров для литографии, 3D-печати и микрообработки.
Оплата продукции производится по безналичному расчету на основании счета либо договора поставки. Компания АЗИМУТ ФОТОНИКС принимает участие в конкурсных торгах (электронных аукционах) на выполнение заказов от бюджетных организаций. Для бюджетных организаций предусмотрена работа с частичной предоплатой в рамках договоров по ФЗ.
Доставка оборудования и компонентов во все регионы России осуществляется транспортными компаниями (Major Express, Гарантпост, СДЭК) с обязательным соблюдением требований к транспортировке и хранению, также возможен самовывоз из нашего офиса в Москве. Условия отправки груза в страны СНГ и ЕАЭС необходимо уточнять отдельно у специалистов нашей компании.
