LMU-10X-248 – фокусирующий объектив MicroSpot с увеличением 10X, оптимизированный для длины волны KrF-лазера 248 нм (диапазон покрытия 240–260 нм). Объектив сочетает высокую числовую апертуру и устойчивость к высоким плотностям энергии, обеспечивая стабильную фокусировку УФ-излучения в микронное пятно.
Описание
LMU-10X-248 разработан для задач, где требуется устойчивое и повторяемое фокусирование излучения на 248 нм – классический рабочий диапазон для KrF-эксимерных лазеров. Узкополосное AR-покрытие, рассчитанное на диапазон 240–260 нм, снижает потери на отражение до долей процента, что особенно важно в системах, где счёт идёт на каждый процент мощности лазера.
Оптическая схема использует несколько элементов из эксимерного кварца и CaF₂ с воздушными промежутками, что обеспечивает высокую стойкость к лазерному повреждению и минимальные аберрации в УФ-диапазоне. Бесконечно скорректированная конструкция даёт возможность размещать в параллельном пучке дополнительные узлы – фильтры, модуляторы, шторки – без заметного ухудшения качества фокусировки.
Объектив обеспечивает баланс между небольшим фокусным расстоянием (~19,8 мм), комфортным рабочим расстоянием (~14,5 мм) и числовой апертурой 0,25. Это делает его универсальным инструментом для микролитографии, локальной обработки поверхности и экспериментальных установок, где требуется точное позиционирование пятна и стабильная геометрия пучка.
Отрасли применения:
- Лазерная микролитография и формирование микроструктур на 248 нм.
- Микросверление и раскрой полимеров, керамики и стекла УФ-лазером.
- Маркировка и гравировка деталей с высоким разрешением.
- Стенды по исследованиям лазерно-материального взаимодействия в области 248 нм.
- Узкоспециализированные установки контроля, инспекции и калибровки УФ-оптики и покрытий.
Характеристики
- Тип: фокусирующий УФ-объектив MicroSpot.
- Увеличение: 10X.
- Спектральный диапазон AR-покрытия: 240–260 нм (оптимизация под 248 нм).
- Числовая апертура (NA): 0,25.
- Фокусное расстояние: ≈ 19,8 мм.
- Свободное рабочее расстояние: ≈ 14,5 мм.
- Оптические материалы: кварц и CaF₂ с низким поглощением в УФ.
- Дизайн: бесконечно скорректированный, воздушно-разнесённая многолинзовая система.
- Резьба: RMS (0.8"-36), совместима с большинством микроскопных стоек.
- Назначение: фокусировка KrF-лазеров и близких по длине волны источников при высоких плотностях энергии.
Оплата продукции производится по безналичному расчету на основании счета либо договора поставки. Компания АЗИМУТ ФОТОНИКС принимает участие в конкурсных торгах (электронных аукционах) на выполнение заказов от бюджетных организаций. Для бюджетных организаций предусмотрена работа с частичной предоплатой в рамках договоров по ФЗ.
Доставка оборудования и компонентов во все регионы России осуществляется транспортными компаниями (Major Express, Гарантпост, СДЭК) с обязательным соблюдением требований к транспортировке и хранению, также возможен самовывоз из нашего офиса в Москве. Условия отправки груза в страны СНГ и ЕАЭС необходимо уточнять отдельно у специалистов нашей компании.
