LMU-10X-193 – фокусирующий объектив MicroSpot 10X для глубоко-УФ диапазона 192–194 нм, оптимизированный под работу с мощными эксимерными лазерами на длине волны 193 нм. Объектив обеспечивает формирование микроскопического пятна с диаметром порядка нескольких микрон при высокой числовой апертуре и рассчитан на длительную работу при высокой плотности энергии излучения.
Описание
Фокусирующий объектив LMU-10X-193 разработан специально для задач, где требуется точная концентрация излучения лазера ArF (193 нм) на минимальной площади. Использование линз из высококачественного, слабо поглощающего УФ-излучение кварцевого стекла и CaF₂ в сочетании с узкополосным антиотражающим покрытием позволяет получить высокую пропускание в узком диапазоне 192–194 нм и минимизировать потери мощности на отражениях.
Конструкция объектива – бесконтактная, с воздушными промежутками между линзами, что повышает порог лазерного повреждения и делает LMU-10X-193 пригодным для длительной эксплуатации в системах высокомощной фотолитографии и микромеханической обработки. Объектив имеет бесконечно скорректированный дизайн и резьбу RMS (0.8"-36), поэтому легко интегрируется в стандартные микроскопные стойки и оптические платформы через типовые переходники.
Благодаря высокой числовой апертуре (NA 0,27) и малому теоретическому размеру фокусного пятна порядка нескольких микрон объектив обеспечивает высокую концентрацию энергии в области фокуса, что критично для процессов абляции, структурирования и нанесения микрорисунка. При этом рабочее расстояние порядка 13 мм обеспечивает удобство юстировки и снижает риск механического контакта с образцом.
Отрасли применения:
- Полупроводниковая фотолитография и микроструктурирование в глубоком УФ-диапазоне (193 нм).
- Микрообработка материалов эксимерными лазерами: резка, сверление, текстурирование поверхностей.
- Нанесение микрометочных структур, микрогравировка и прецизионное травление.
- Исследовательские установки по изучению лазерно-индуцированного пробоя, LIBS и других нелинейных эффектов на 193 нм.
- Системы контроля качества и инспекции фотошаблонов и оптических элементов для DUV-оптики.
Характеристики
- Тип: фокусирующий объектив MicroSpot для УФ-лазеров.
- Увеличение: 10X (при использованиtube-линзы 200 мм).
- Рабочий диапазон длин волн (AR-покрытие): 192–194 нм.
- Числовая апертура (NA): 0,27.
- Теоретический размер фокусного пятна: ≤ 5 мкм (серия MicroSpot).
- Фокусное расстояние: ≈ 18,2 мм.
- Свободное рабочее расстояние: ≈ 13,2 мм.
- Материал оптики: эксимерный кварц и CaF₂ с низким поглощением в DUV.
- Конструкция: бесконечно скорректированный дизайн, воздушно-разнесённые линзы.
- Резьба крепления: RMS (0.8"-36), совместимость с типовыми адаптерами и микроскопными носами.
- Рекомендуемое применение: фокусировка высокомощных эксимерных лазеров 193 нм в задачах микромеханики и литографии.
Оплата продукции производится по безналичному расчету на основании счета либо договора поставки. Компания АЗИМУТ ФОТОНИКС принимает участие в конкурсных торгах (электронных аукционах) на выполнение заказов от бюджетных организаций. Для бюджетных организаций предусмотрена работа с частичной предоплатой в рамках договоров по ФЗ.
Доставка оборудования и компонентов во все регионы России осуществляется транспортными компаниями (Major Express, Гарантпост, СДЭК) с обязательным соблюдением требований к транспортировке и хранению, также возможен самовывоз из нашего офиса в Москве. Условия отправки груза в страны СНГ и ЕАЭС необходимо уточнять отдельно у специалистов нашей компании.
Обратная связь по сайту
Что-то пошло не так или у вас есть идея по улучшению сайта? Сообщите, и мы всё поправим